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CIF-Spin Processor

簡(jiǎn)要描述:CIF-Spin Processor轉速穩定、啟動(dòng)迅速,旋涂均勻,操作簡(jiǎn)單,結構緊湊實(shí)用,為實(shí)驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué),硅片、載玻片,晶片,基片,ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

  • 產(chǎn)品型號:SC1
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2024-07-03
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:5067

詳細介紹

品牌CIF價(jià)格區間10萬(wàn)-30萬(wàn)
產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)應用領(lǐng)域醫療衛生,環(huán)保,食品,化工,農業(yè)

Spin Processor旋涂勻膠機產(chǎn)品特點(diǎn)

采用閉環(huán)控制伺服電機,數字式增速信號反饋,速勻準確,壽命長(cháng),保證勻膠的均一性。

5寸全彩觸摸屏,智能程序化可編程操控顯示,標配10個(gè)勻膠梯度階段(速度和時(shí)間梯度設置),可選配10個(gè)可編程程序,每個(gè)程序下可設置10個(gè)勻膠梯度階段,z100個(gè)階段。

內置水平校準裝置,大限度的保證旋涂均勻,可對大小不同規格的基片進(jìn)行旋涂。

多重安全保護:

» 電磁安全開(kāi)關(guān),蓋子打開(kāi)卡盤(pán)停止,保證安全;

» 蓋子自鎖功能,防止飛片蓋彈開(kāi)傷人;

» 雙重安全上蓋,聚四氟嵌鑲鋼化玻璃,避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人,大限度保證實(shí)驗人員安全。

樣品托盤(pán)卡口和樣品托盤(pán)之間三重密封安全保護,有效降低電機進(jìn)膠的風(fēng)險。

一機兩用,根據不同樣品可選真空吸盤(pán)和非真空卡盤(pán)兩種旋涂方式。

符合人體功能學(xué)的水平取放樣品旋涂托盤(pán)設計,取放樣品更方便。

不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體,旋涂腔體采用PTFE材料。旋涂托盤(pán)采用聚丙烯(NPP-H)材料,耐酸堿防腐蝕,保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。

上下雙腔體設計,較大的上腔體便于擦拭去除膠液,錐形下腔體結構設計便于收集膠液,并帶廢膠收集裝置

可選氮氣吹干、氮氣保護,自動(dòng)滴膠或簡(jiǎn)易滴膠裝置,提供更多的操作便利性。

適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs,GaN,InP 等多種材料。

  勻膠機是一種常見(jiàn)用于材料薄膜制備工藝的實(shí)驗室設備,它的原理相對比較簡(jiǎn)單,利用電機高速旋轉時(shí)所產(chǎn)生的離心力使得試液或者膠液均勻地涂敷在基底材料的表面,顧名思義,一種可以“讓膠液均勻涂敷的機器”。勻膠機有很多稱(chēng)謂,勻膠臺,旋轉涂膜機,旋轉涂層機或者旋轉涂敷機等等,它的英文是Spin Processor:旋轉涂膜的意思。

 

  勻膠過(guò)程中基片的加速度也會(huì )對膠膜的性能產(chǎn)生影響。因為在基片旋轉的階段,光刻膠就開(kāi)始干燥(溶劑揮發(fā))了。所以準確控制加速度很重要。在一些勻膠過(guò)程中,光刻膠中50%的溶劑就在勻膠過(guò)程開(kāi)始的幾秒鐘內揮發(fā)掉了。在已經(jīng)光刻有圖形的基片上勻膠,加速度對膠膜質(zhì)量同樣起重要作用。在許多情況下,基片上已經(jīng)由前面工序留下來(lái)的精細圖形。因此,在這樣的基片上穿越這些圖形均勻涂膠是重要的。勻膠過(guò)程總是對光刻膠產(chǎn)生離心力,而恰恰是加速度對光刻膠產(chǎn)生扭力(twisting force),這個(gè)扭力使光刻膠在已有圖形的周?chē)㈤_(kāi),這樣就可能以另一種方式用光刻膠覆蓋基片上有圖形的部分。

 

Spin Processor旋涂勻膠機技術(shù)參數

型號

轉速(轉/分)

轉速穩定度

勻膠時(shí)間

旋涂基片尺寸mm

外型尺寸(LxWxH)mm

SC1

50-10000

±1%

0-2000秒

圓片Φ5-Φ100,方片z大100x100

310x260x250

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