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  • SC1CIF-Spin Processor
    SC1CIF-Spin Processor

    CIF-Spin Processor轉速穩定、啟動(dòng)迅速,旋涂均勻,操作簡(jiǎn)單,結構緊湊實(shí)用,為實(shí)驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué),硅片、載玻片,晶片,基片,ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

    時(shí)間:2024-07-03型號:SC1訪(fǎng)問(wèn)量:5068
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  • CIF-SEM掃描電鏡等離子清洗機
    CIF-SEM掃描電鏡等離子清洗機

    CIF 掃描電鏡(SEM)等離子清洗機采用遠程等離子清洗源 設計,清洗快速、高效、低轟擊損傷,主要用于 SEM 或 FIB 等腔 體內碳氫化合物的清洗。

    時(shí)間:2024-07-03型號:CIF-SEM訪(fǎng)問(wèn)量:5363
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  • CPC15/35/80/120/150CIF生產(chǎn)型等離子清洗機
    CPC15/35/80/120/150CIF生產(chǎn)型等離子清洗機

    CIF 推出的中試生產(chǎn)型等離子清洗機是為研發(fā)型客戶(hù)和工業(yè)級客 戶(hù)而設計的等離子體表面處理設備。配置豐富, 且真空腔體里可分層, 適合大多數生產(chǎn)場(chǎng)景清洗,活化、刻蝕等應用。設備可在嚴苛環(huán)境下 穩定運行,產(chǎn)品性能穩定,樣品處理重復性、一致性好。

    時(shí)間:2024-07-03型號:CPC15/35/80/120/150訪(fǎng)問(wèn)量:2135
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  • PH22CIF烤膠機
    PH22CIF烤膠機

    烤膠機是一種控溫加熱 設備。主要用于半導體硅片, 載玻片,晶片,基片,ITO 導 電玻璃等工藝的制版的表面涂 覆后薄膜烘干、固化。

    時(shí)間:2024-07-03型號:PH22訪(fǎng)問(wèn)量:4106
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  • CIF Spin Coater勻膠機
    CIF Spin Coater勻膠機

    Spin Coater勻膠機進(jìn)行滴膠就是簡(jiǎn)單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心,滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據光刻膠的粘度和基片的大小來(lái)確定。粘度比較高和/或基片比較大,往往需要滴較多的膠,以保證在高速旋轉階段整個(gè)基片上都涂到膠。動(dòng)態(tài)滴膠方式是在基片低速(通常在500轉/分左右)旋轉的同時(shí)進(jìn)行滴膠,“動(dòng)態(tài)”的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開(kāi),減少光刻膠的浪費,采用動(dòng)態(tài)滴膠不需要很多光刻膠就能潤濕(鋪展覆蓋)整個(gè)基片表面。尤其是當光刻膠或基片本身潤濕性不好的情況下,動(dòng)態(tài)滴膠尤其適用,不會(huì )產(chǎn)生針孔。

    時(shí)間:2024-07-03型號:CIF Spin Coater訪(fǎng)問(wèn)量:3690
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  • MSC/SC1/2CIF勻膠旋涂?jì)x
    MSC/SC1/2CIF勻膠旋涂?jì)x

    CIF 推出的旋涂機系列產(chǎn)品轉速穩定、啟動(dòng)迅速,旋涂均勻,操作簡(jiǎn)單,結構緊湊實(shí)用,為實(shí)驗室提供了理想的解決方案。

    時(shí)間:2024-07-03型號:MSC/SC1/2訪(fǎng)問(wèn)量:7196
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  • UVO5CIF紫外臭氧清洗機
    UVO5CIF紫外臭氧清洗機

    紫外臭氧清洗機(UVO),是一種簡(jiǎn)單,經(jīng)濟,快速高效的材料表面清洗設備,能快速去除大多數無(wú)機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機污染物。

    時(shí)間:2024-07-03型號:UVO5訪(fǎng)問(wèn)量:6069
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  • CPCP3/plus粉體等離子清洗機
    CPCP3/plus粉體等離子清洗機

    CIF專(zhuān)為處理粉體如粉狀、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專(zhuān)用等離子清洗機,可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料,改變傳統真空等離子清洗機無(wú)法處理粉體樣品的問(wèn)題。

    時(shí)間:2024-07-03型號:CPCP3/plus訪(fǎng)問(wèn)量:4197
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