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紫外臭氧清洗機的實(shí)用技術(shù)及在生產(chǎn)中的應用范圍

更新時(shí)間:2024-02-29       點(diǎn)擊次數:1152
  隨著(zhù)光電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,紫外線(xiàn)表面清潔技術(shù)在上被提出。1970年代中期,美國電子技術(shù)和設備實(shí)驗室使用紫外線(xiàn)清潔石英晶片,并取得了令人滿(mǎn)意的結果。但是,在美國,紫外臭氧清洗機技術(shù)長(cháng)期以來(lái)一直主要用于領(lǐng)域的研究中。直到1990年代初,日本和美國先后將UV光清洗機應用于民用光電產(chǎn)品的工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中,并在需要技術(shù)保密的情況下,開(kāi)始向中國的外資LCD公司提供UV光清洗機。
 
  隨后,在日本開(kāi)發(fā)紫外線(xiàn)表面清潔技術(shù)的同時(shí),還開(kāi)發(fā)了紫外線(xiàn)表面改性技術(shù)。二十世紀末,日本的先進(jìn)工業(yè)國家如紫外線(xiàn)表面清潔和升級技術(shù)逐漸從信息產(chǎn)業(yè)擴展到金屬,塑料,橡膠等工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程。在1990年代后期,中國的信息技術(shù)和產(chǎn)業(yè)以驚人的速度迅速發(fā)展,特別是平板顯示技術(shù)的迅速發(fā)展。LCD屏幕從TN級別持續提高到STN和TFT。新型OLED顯示產(chǎn)品也開(kāi)始進(jìn)入市場(chǎng)。結果,制備過(guò)程的表面質(zhì)量要求變得越來(lái)越嚴格,紫外線(xiàn)表面清潔技術(shù)的*性已得到廣泛認可,并且對紫外臭氧清洗機的需求也在不斷增加。
 
  1.在LCD和OLED的生產(chǎn)中,在施加光致抗蝕劑,PI膠,取向膜,鉻膜和彩色膜之前先用紫外臭氧清洗機進(jìn)行光清潔,可以大大提高基板表面的潤濕性并增強基板表面的附著(zhù)力;
 
  2.大型集成電路的密度越來(lái)越高,晶格越來(lái)越密,并且要求表面的清潔度越來(lái)越高。輕度清潔可以有效地實(shí)現表面原子清潔度,并且不影響芯片表面。會(huì )造成損壞。
 
  3.在印刷電路板的生產(chǎn)中,紫外臭氧清洗機對銅基板和印刷基板進(jìn)行光學(xué)清洗和改性,并在焊絲焊接之前進(jìn)行光學(xué)清洗,這樣可以增加熔焊的接觸面積并大大提高增加連接強度。特別是對于高精度印刷電路板,當線(xiàn)間距達到亞微米水平時(shí),光清洗可以輕松地去除線(xiàn)間距之間的非常小的顆粒,這可以大大提高印刷電路板的質(zhì)量。

紫外燈類(lèi)型 低壓石英水銀蒸汽燈
紫外線(xiàn)燈的主要波長(cháng) 185nm和254nm
UV燈管尺寸 100x100mm
UV燈電源 4000V,30mA
UV燈壽命 每天使用可用8-10年
適用電壓 230V,0.6A,50Hz//opt.(110V,1.2A,60Hz)
大運行時(shí)間 59分59秒
安全 安全聯(lián)鎖,高溫報警,高溫斷電。
托盤(pán)尺寸 120x120mm
大樣品尺寸 100x100mm
總尺寸 長(cháng)204mm、高227mm、寬300mm

紫外臭氧清洗機

 

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